这几年的半导体都技巧成长开端堕入窘境，制程更新也变得愈来愈慢。从intel的22nm制程完成以后，摩尔定律就开端掉效，制程更新速度也变得愈来愈慢。依照摩尔定律，英特尔在2013年就要推出14nm的处置器，2015年就要加入10nm的处置器。不外依照今朝的情形来看，英特尔的14nm在2015年才开端推出，而10nm则被推延到本年上半年。
英特尔处置器
传播鼓吹要在本年量产10nm的半导体晶圆代工场有台积电、三星和英特尔。在不久之前，台积电、三星两家都曝出了10nm制程良率欠安，量产也变得有些为难。在近日，国外财经杂志Barrons.com爆料称英特尔在10nm量产的进程中也遭受了良率欠安的成绩。
预备在2017年采取10nm工艺的厂商异常多，除英特尔新一代的CannonLake以外，海思麒麟、高通骁龙、联发科X30等尖端科技科技厂商都将应用10nm工艺，一旦良率欠安，将会招致桌面级、挪动处置器的年夜面积缺货，乃至激发行业惊恐。
光刻机
其其实转进到10nm制程进程中，光刻技巧的限制就开端凸显。由于今朝主流的193nm光刻技巧曾经走到止境，今朝只能依附多重暴光来完成制程工艺的微缩。固然这两年的EUV光刻机开端出货，不外EUV光刻也只能保持到5nm制程，再前面要若何持续更新制程今朝还没有明白的工艺技巧。
良率低不只仅会影响到10nm制程装备的出货，同时能够会让7nm甚至5nm制程研发期加长。为了更好的转进7nm、5nm，台积电在赓续的摸索锗/三五族资料取代硅等等，乃至在2017年岁首年月购置了5台极紫外光刻机。
10nm工艺良率太低 或致iPhone8历久缺货 台积电仍有时光，可三星来不及了
新工艺良率低的成绩在半导体工业上异常罕见，正常上线的尖端光刻工艺良率普通在60%阁下，假如低于这个良率，那就有仓皇上线的嫌疑了。不外好新闻是间隔本年的旗舰iPhone宣布还有半年时光，台积电仍然有足够的时光来改良良率低的成绩。而高公则没有那末荣幸了，由于他们筹划在本年3月出货10nm处置器，三星的良率低短时光没法处理，将会招致客户埋怨和错掉市场。
在2017年，英特尔与遭受了极年夜的挑衅，AMD的zen架构强势回归，让他们尝到久背的压力。固然英特尔其实不会为此过度惊恐，不外来岁他们也必将要拿出10nm的CannonLake，由于英特尔本年又跳票了10nm工艺。
